Pentron Adhesör Çinko Fosfat Siman

Pentron Adhesör Çinko Fosfat Siman, dental uygulamalarda kullanılan geleneksel bir siman türüdür. Çinko fosfat esaslı bu ürün, özellikle protetik restorasyonlarda ve çeşitli sabitleme işlemlerinde yer bulur. Ürünün formülasyonu, mekanik dayanıklılık ve adezyon özelliklerinin dengelenmesi amacıyla optimize edilmiştir. Pentron markasının dental malzeme kategorisinde yer alan bu siman, farklı dental prosedürlerde yapışma ve dolgu işlemleri için tercih edilir.

Teknik Özellikler

• Kimyasal Yapı: Çinko fosfat bazlı siman, inorganik asitler ve çinko tozunun reaksiyonuyla oluşturulur.
• Bağlanma Mekanizması: Mekanik tutunma prensibine dayalı olup, diş sert dokularına ve metal yüzeylere adezyon sağlar.
• Karışım Oranı: Toz ve sıvı oranının kontrolü, simanın kıvam ve sertleşme süresini etkiler.
• Sertleşme Süresi: Ortalama 5-9 dakika arasında değişir, klinik uygulama koşullarına bağlıdır.
• Basınç Dayanımı: Yüksek basınç dayanımı sayesinde protetik restorasyonlarda stabil destek sağlar.
• Biyo-uyumluluk: Diş ve çevre dokularla uyumlu olup, irritan etkisi minimumdur.
• Radyopaklık: Radyografide görünürlük sağlar, böylece uygulama sonrası kontrol imkanı sunar.
• pH Değeri: Sertleşme sürecinde geçici olarak düşük pH değerine ulaşır, sonrasında nötralize olur.

Kullanım Alanları

• Protetik restorasyonların sabitlenmesinde, örneğin kron ve köprü yapıştırma işlemlerinde
• Diş preparasyonunda geçici veya kalıcı dolgu materyali olarak
• Ortodontik bantların yapıştırılmasında destek malzemesi olarak
• Kanal dolgu sonrası post ve çekirdek materyallerinin sabitlenmesinde
• Diş hekimliğinde mekanik tutuculuk gerektiren diğer uygulamalarda

Pentron Adhesör Çinko Fosfat Siman, dayanıklılığı ve mekanik bağlanma kapasitesi ile restoratif diş hekimliği alanında tercih edilen ürünler arasında yer alır. Ürünün özellikleri, protetik ve restoratif işlemlerdeki çeşitli ihtiyaçlara yanıt verebilecek niteliktedir ve Pentron’un dental malzeme portföyünde teknik kalite standartlarına uygun şekilde sunulmaktadır.