SDI Dental Riva Luting – Rezin Bazlı Cam İyonomer Yapıştırma Simanı (Toz + Likit Set)

Dental yapıştırma simanları, restoratif diş hekimliğinde çeşitli malzemelerin diş yüzeyine güvenli bir şekilde bağlanmasını sağlamak amacıyla kullanılmaktadır. SDI Dental Riva Luting, rezin bazlı cam iyonomer yapıştırma simanı olarak formüle edilmiş bir ürün olup, toz ve likit şeklinde hazırlanabilen bir set halinde sunulmaktadır. Bu kompozit yapı, cam iyonomerlerin kimyasal bağlanma ve flor salınımı özellikleriyle, rezinlerin mekanik dayanıklılığını bir araya getirmektedir. Böylece diş hekimliği uygulamalarında uzun süreli dayanıklılık ve biyo-uyumluluk sağlama potansiyeline sahiptir.

Teknik Özellikler

• Kompozisyon: Rezin bazlı cam iyonomer matris üzeri toz ve likit formülasyonu
• Kimyasal Bağlanma: Mine ve dentine kimyasal olarak bağlanma yeteneği
• Flor Salınımı: Uzun dönem flor iyonu salınımı ile anti-arktik özellikler
• Polimerizasyon: Kendiliğinden sertleşen (self-cure) mekanizma
• Radyopaklık: Radyografik görüntülemede görünürlük
• Çözünürlük: Düşük su emilimi ve çözünürlük
• Yoğunluk ve Viskozite: Ayarlanabilir karışım oranlarıyla optimal viskozite
• Biyo-Uyumluluk: Klinik uygulamalar için biyouyumlu malzeme formülasyonu

Kullanım Alanları

• Koronal restorasyonların yapıştırılmasında
• Kron ve köprü protezlerinin sementasyonu
• Diş içi post uygulamalarında simanlama
• Geçici ve uzun süreli yapıştırma işlemlerinde
• Mine ve dentin substratlarına yönelik yapışma işlemleri
• Flor salınımı ve cari risk azaltımı gerektiren vakalarda

SDI markasının bu ürünü, dental siman kategorisinde yer almakta olup, döner sistem ve endodontik kanal tedavisi sonrası restorasyonlarda uygun bağlanma kapasitesi nedeniyle tercih edilen yapıları içinde bulunmaktadır. Özellikle biyo-uyumluluk ve mekanik dayanıklılık gibi parametrelerde optimize edilmiş olan bu ürün, diş hekimliği pratiğinde çeşitli uygulamalar için teknik bir çözüm sunmaktadır. Toz ve likit komponentlerin homojen karışımı ile siman uygulanacak alana kolay adapte olabilmektedir.